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本年3月１日より、改正知的財産法が施行されています。商標について重要な改正点は以下の通りです。

1. 存続期間の変更
　商標権の存続期間は、旧法下では出願日から7年でしたが、改正法により出願日から10年となりました。

2. 更新に関する変更
　更新期間は、旧法下では14年でしたが、改正法により7年に短縮されました。また、更新期限は6ヵ月のグレース・ピリオドが認められることとなりました。

3. 不使用取消制度の変更
　旧法下では5年間の不使用が不使用取消対象となっていましたが、3年間の不使用に短縮されました。

4. 防護標章制度の廃止
　旧法下では防護標章制度が認められていましたが、改正法により廃止されました。

5. 保護客体の拡張
　改正法により、団体商標、立体商標、地理的表示及び商号に関する保護制度が新設さ
れました。

6. 直接侵害の明文化
　同一または類似商品・役務に関して同一または類似商標が使用され、出所混同のおそれがある場合、商標権の直接侵害を認定する規定が明文化されました。

7. 出所混同のおそれの推定の明文化
　同一の商品・役務に関して同一商標が使用されている場合、出所混同のおそれがあると推定することが明文化されました。

（商標部 研壁）